ダブルパターニングによって32nmから20nmまで微細化を進めることができた。

このあとは流石にEUVしかない・・・となっていたが、EUVの開発は遅れに遅れ、半導体各社は更に露光を繰り返すトリプルパターニングやクアドロパターニングを導入せざるを得なかった。