ナノインプリント技術は、将来的にEUV露光装置を置き換える存在になるかもしれません。大日本印刷が発表した新しいテンプレートにより、1.4nmプロセスの先端半導体の製造に対応できるようになると期待

ただし、、、

ナノインプリントは現在のところ、フラッシュメモリの製造といった特定の用途に限定されています。フラッシュメモリであれば、回路の一部に欠陥があってもコントローラー側で欠陥箇所を回避して使用することができるため、製品として出荷することが可能です。しかし、少しでも欠陥があると完全に不良品となってしまうロジック半導体の分野においては、ナノインプリントはまだ適していません。
https://youtu.be/xDrVKRKE7Vo?si=miq2Bt0b-jKj8aT2