また、7nm以降は露光プロセスがArF液浸露光とマルチパターニング技術からEUV(Extreme Ultra-Violet : 極端紫外線)に変わります。こちらの装置とプロセス立ち上げがうまくいった企業が勝つ可能性大。今はTSMCが一歩リードかな。